高真空離子鍍膜機 | PRM-TAIWAN塑橡膠B2B平台

分類: 金屬鍍膜

大永真空科技股份有限公司

國家: 台灣

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高功率脈衝磁控濺鍍系統(HiPIMS，High Power Impulse Magnetron Sputtering) 是一種以高功率脈衝電源進行磁控濺鍍的技術，透過產生比傳統直流濺鍍模式要高上數十倍之瞬間脈衝電流，得到比直流濺鍍要高上百倍至萬倍的高電子密度電漿，而此HIPIMS鍍膜系統可有效提高被濺射粒子的離化率，並可在低基材溫度下得到無孔隙、緻密度高、結晶性佳的薄膜。

產品名稱	DYAC-PVD 高真空離子鍍膜機(HiPIMS高功率脈衝磁控濺鍍系統)
產品型號	DYAC-1200-HLS
適用基質	金屬、陶瓷、矽、玻璃、塑膠
塗層技術	HiPIMS高功率脈衝磁控濺鍍
塗層材料	依製程而定
塗層顏色	依製程而定
腔室材質	不鏽鋼SUS304
操作系統	IPC & PLC
腔體直徑	Ø1200mm
腔體高度	H1200mm
自轉軸數	6~12軸(依製程而定)
有效鍍膜直徑	Ø960mm
有效鍍膜高度	H850mm
鍍膜方式	HiPIMS高功率脈衝磁控濺鍍與陰極電弧鍍膜
濺鍍源數量	6支
濺鍍電源功率(kW)	20kW
極限真空(Torr)	5*10E-6 Torr
製程週期	依製程而定
需求電源	3 Phase/380V/170kW/50-60Hz

全自動化控制(IPC & PLC)，複合式多層膜鍍膜系統。
可選用多種鍍膜方式(陰極電弧、磁控濺鍍、離子源、HiPIMS)滿足各種膜層沉積需求。
低置式腔體搭配行星式公自轉機構，適合各種尺寸工件大批量鍍膜生產。
符合歐盟CE安全標準與技術規範（選配）。
PVD塗層特性：
• 高耐磨性
• 高工作溫度下維持高硬度
• 高抗氧化性
• 低摩擦系數
• 抗沾粘
• 耐刮傷
• 各種表面顏色